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Unimill 離子減薄儀--用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動離子束減薄系統(tǒng)

Technoorg Linda UniMill 離子減薄儀專為快速地制備具備高減薄率的、高質量的 TEM/XTEM 樣品而設計。 Unimill 既可以使用超高能離子槍進行快速研磨，也可以使用專用的低能離子槍進行最終拋光和精修處理。

產品特色：

·可直接使用同一臺儀器進行快速減薄和拋光/精細處理

·支持全自動的離子槍參數設置和手動調節(jié)離子束研磨參數

·具備廣泛的離子槍能量范圍： 低能離子槍與超高能離子槍結合，能量范圍可達 100 eV ~ 16 keV

·具備高的切削率

·可選擇配備 LN2 液氮制冷

離子槍優(yōu)勢

UniMill 包括兩支獨立控制的離子槍：一支高能或超高能離子槍和一支低能離子槍。

高能和超高能離子槍

Unimill 的高能和超高能離子槍提供了最高的研磨率。高達 16 keV 的離子槍專為要求極低研磨速率的 TEM 樣品制備而設計。

低能離子槍

離子槍的特殊結構可在整個制備過程中形成高束流密度。能量極低的離子束保證了表面損傷和離子束誘導非晶化效應的最小化。

離子槍控制

所有離子槍參數，如加速電壓和離子束電流在內均由智能反饋回路控制，但始終可以在樣品制備過程中進行手動調節(jié)。離子槍參數的初始值支持自動設置或手動調節(jié)，同時可在電腦上連續(xù)監(jiān)控和顯示。

性能參數

離子槍

超高能離子槍（可選）：

• 離子束能量：高達16 keV，連續(xù)可調

• 離子束電流：高達 500 μA

• 離子束直徑：1.6 - 1.8 mm (FWHM)

高能離子槍（標配）：

• 離子束能量：高達10 keV，連續(xù)可調

• 離子束電流：高達 300 μA

• 離子束直徑：0.9 - 1.3 mm (FWHM)

低能離子槍：

• 離子束能量：100 eV - 2 keV，連續(xù)可調

• 離子束電流：7 - 80 μA

• 離子束直徑：1.5 - 2.2 mm (FWHM)

樣品臺

1. 切削角度：0°- 40°，每 0.1° 連續(xù)可調

2. 電腦控制的平面內樣品旋轉和移動：

3. 360° 旋轉

4. 從±10° 到±120° 移動，每 10° 連續(xù)可調

5. 可兼容的 TEM 樣品厚度范圍 (30 - 200 μm)

成像系統(tǒng)

• 用于全視覺控制和切削監(jiān)控/終止的 CMOS 相機圖像

• 高分辨率彩色 CMOS 相機

• 50 - 400 倍放大范圍的手動變焦視頻鏡頭

電腦控制

• 內置工業(yè)級計算機

• 簡單便捷的圖形界面和圖像分析模塊

• 支持用戶手動調節(jié)離子槍參數，包括氣流調節(jié)

• 用于自動設置機械和切削參數的預編程方案（可以

手動調整）

• 自動樣品加載

• 自動終止：圖像分析模塊支持的切削過程的光學終止

（ 通過檢測薄區(qū)穿孔或監(jiān)測表面形貌）

供氣系統(tǒng)

• 99.999% 純氬氣，絕對壓力為 1.3 - 1.7 bar

• 帶有電子出口壓力監(jiān)測功能的惰性氣體專用壓力調節(jié)器

•工作氣體流量高精準控制

真空系統(tǒng)

• Pfeiffer 真空系統(tǒng)配備無油隔膜和渦輪分子泵，配備緊湊

的全范圍 Pirani/Penning 真空計

電源要求

• 100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz

成像案例